Вакуумное оборудование

1. Комплект малогабаритных вакуумных установок настольного типа   “МВУ ТМ”

 

Оборудование предназначено для   реализации технологических процессов вакуумного осаждения, плазменного травления и термического отжига при обработке единичных изделий различной номенклатуры или ограниченных  партий изделий.

Отличительной особенностью этого вида оборудования является то, что для его построения максимально используются унифицированные элементы основных функциональных систем, применяемые при изготовлении  этого вида оборудование  (каркас, элементы вакуумной, газовой, пневматической систем, система управления). При этом загрузка/выгрузка обрабатываемых изделий производится вручную, без шлюзования и без использования механизма перегрузки. Значительная степень унификации  снижает себестоимость изготовления установок этого ряда оборудования, значительно упрощает и облегчает их промышленную эксплуатацию.

 

МВУ ТМ-Магна

Малогабаритная вакуумная установка нанесения металлов и диэлектриков методом магнетронного распыления. 

 

МВУ ТМ-ТИС

Малогабаритная вакуумная установка напыления плёнок металлов методом термического испарения.

 

МВУ ТМ-Отжиг

Малогабаритная вакуумная установка термического отжига и сушки слоёв и материалов.

 

МВУ ТМ-Изофаз CVD

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического газофазного осаждения плёнок с диодной системой.

 

МВУ ТМ-Изофаз CVD ICP

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического газофазного осаждения плёнок с ICP источником плазмы.

 

МВУ ТМ-Плазма РИТ

Малогабаритная вакуумная установка травления слоёв и материалов методом реактивно-ионной обработки.

 

МВУ ТМ-Плазма ПХТ

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического травления слоёв и материалов в плазме диодного разряда.

 

МВУ ТМ-Плазма ПХТ ICP

Малогабаритная вакуумная установка плазменного травления слоёв и материалов с ICP источником плазмы.

 

2. Комплект технологического оборудования индивидуальной обработки подложек (пластин) со шлюзовой загрузкой.

 

Оборудование предназначено для его использования при реализации технологических процессов нанесения слоёв путём магнетронного распыления мишени, осаждения слоёв из газовой фазы с плазменным стимулированием,  плазменного травления  материалов при обработке серийных изделий, в том числе и в условиях «чистых» помещений в условиях промышленного производства.

 

Отличительной особенностью этого вида оборудования является то, что при его построении используется единый вакуумный загрузочный модуль, унифицированный для всех установок этого ряда и включающий  системы и устройства, обеспечивающие их функционирование -  каркас, перегрузочный шлюз, механизм загрузки/выгрузки, элементы вакуумной, газовой, пневматической систем, система управления. Такая унификация снижает себестоимость изготовления установок этого ряда оборудования, значительно упрощает и облегчает их промышленную эксплуатацию.

 

ВЗМ-200

Вакуумный загрузочный модуль.

 

Магна ТМ-200

Вакуумная установка магнетронного нанесения металлических и диэлектрических слоёв

.

Плазма ТМ-200

Вакуумная установка плазменного травления наноструктур.

 

Изофаз ТМ-200

Вакуумная установка плазмохимического осаждения пленок из газовой фазы.

 

3.Промышленное технологическое оборудование с групповой обработкой пластин.

                        

Магна ТМ-29 

Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой.

 

Магна ТМ-2М

Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой.

 

Магна ТМ-5М

Вакуумная установка напыления металлических плёнок с магнетронной системой.