Физико-термическое оборудование

Комплект малогабаритного физико-термического оборудования.

 

ОАО НИИТМ предлагает ряд малогабаритных вакуумных установок  для групповой обработки изделий при проведения физико-термических процессов, как в условиях вакуума, так и при нормальном давлении в рабочем объёме установок.

 

Оборудование предназначено для   реализации технологических процессов вакуумного осаждения,  термического отжига, диффузии, окисления, сушки, разгонки диффузанта при групповой обработке изделий различной номенклатуры или ограниченных  партий изделий.

 

Предлагаемое физико-термическое оборудование может быть использовано, как в  промышленном производстве, так и в высших учебных заведения и национальных университетах для обучения студентов, в научных центрах и организациях системы РАН.

 

Отличительной особенностью этого вида оборудования является то, что для его построения максимально используются унифицированные элементы основных функциональных систем, применяемые при изготовлении  этого вида оборудование  (каркас, элементы вакуумной, газовой, пневматической систем, система управления). При этом загрузка/выгрузка обрабатываемых изделий производится вручную, без шлюзования и без использования механизма перегрузки. Значительная степень унификации  снижает себестоимость изготовления установок этого ряда оборудования, значительно упрощает и облегчает их промышленную эксплуатацию.

 

Оксид ТМ 

Термическая обработка пластин и материалов при нормальном атмосферном давлении – процессы диффузии, окисления, отжига, сушки, разгонки диффузанта, восстановления кристаллических структур.  

 

Отжиг ТМ

Термическая обработка пластин и материалов в высоком вакууме и газовой среде – процессы отжига, сушки, разгонки диффузанта, восстановления кристаллических структур.

 

Изотрон ТМ

Процессы осаждения слоёв из газовой среды при пониженном давлении (форвакууме).

 

Изоплаз ТМ

Плазмохимическое осаждение диэлектрических нелегированных и легированных слоёв оксида кремния и слоёв нитрида кремния при пониженном давлении с плазменной активацией реагентов.

                  

Физико-термическое оборудование обработки материалов.

 

Эпи ЕТМ

Эпитаксиальная установка с групповой обработкой подложек. 

 

Эпи ЕТМ-И200

Установка наращивания эпитаксиальных слоёв с индивидуальной  обработкой подложек диаметром до 200мм.

 

Эпи ЕТМ-М

Малогабаритная установка наращивания эпитаксиальных слоёв.

 

Монооксид

Установка высокотемпературной обработки материалов в вакууме.