Создание нового поколения высокоэффективного технологического оборудования для фабрикации наноструктур

Принцип действия этих приборов основан как на известных, так и на новых принципах управления пучками частиц. Для реализации первого прибора разработан новый метод управления нейтральными атомными и молекулярными пучками с помощью поликапиллярных систем, в стенки которых вводится лазерное излучение в режиме полного внутреннего отражения. При этом внутри капилляров обра­зуется радиально-симметричное поле поверхностной световой волны, способствующей движению атомов по модифицированной траектории. Данное оборудование может найти широкое практическое применение в технологии атомной сборки и литографии. 

 

Кроме того, разработан опытный образец установки ионно-лучевого напыления пленок. Ионно-лучевая технология основана на ионной абляции атомов различных материалов из мишени, меняя которую можно осаждать на подложке тонкие слои ве­щества, создавая при этом всевозможные наноструктуры.